일본-미국 연구진 EUV 노광장비 효율 2배로 향상시킨 연구 발표

https://youtu.be/o1t7D6Pra48?si=JwoV-olqerhABR4b

일본의 우츠노미야 대학과 미국의 퍼듀 대학이 EUV의 노광 장비의 변환효율의 이론적 상한치를 10.3%까지 높였다고 한다. 나중에 퍼듀 대학 연구원이 나오는데 일본인인 듯하다.

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현재는 약 5~6% 정도라고 한다.

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EUV 장비가 먹는 전력량도 많아서 문제가 되는데 대만에서 TSMC가 사용하는 전력량의 비중이 6%(2020년)에서 12.5%(2025년)로 크게 증가할 것으로 보인다고 한다.

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일본에서 NTT가 사용하는 전력량이 일본 전체의 1% 비중이고, 대형 마트 체인 이온그룹도 1% 밖에 안된다고 비교를 하고 있다.

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사실 노광 장치 기초연구도 1980년대부터 일본이 진행해서 원조이긴 한데 지금은 ASML이 압도적이긴 하다. 일본도 캐논이나 니콘 등이 있기는 하지만 EUV 쪽은 노답이다.

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EUV 프로세스를 설명하는데 그다지 중요하지는 않아서 대충 이야기하면, 액상 Sn(주석)에 CO2 레이저를 조사한 뒤에 플라즈마화 시켜서 EUV 광이 발생한다고 한다.

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EUV의 문제는 빛을 렌즈로 반사시켜서 쏘아주는 과정에서 렌즈에 에너지가 흡수되면서 효율이 뚝뚝 떨어지는 것인데, 이번 연구에서는 Spot 사이즈, 레이저 펄스의 지속 시간을 바꿔가면서 테스트 했다고 한다.

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Spot 사이즈는 주석에 어느 정도 사이즈의 레이저를 쏴 줄 지를 말하는 것이라고 한다. 광원의 크기를 조절하는 걸로 이해했다.

펄스 지속시간은 매우 짧은 시간 레이저 펄스를 쏴주는데 긴 시간 노출인지, 짧은 시간 동안 쏴주는 지를 변경한 것이라고 한다.

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(a)의 경우가 이상적인 결과라고 한다. 뒤에 더 설명하고 있는데 유료 회원만 뒤의 영상을 볼 수 있다.