다이닛폰프린팅, 3나노 EUV향 포토마스크 제조 프로세스 개발
https://news.biglobe.ne.jp/it/1212/mnn_231212_3745121301.html DNPが3nmプロセス相当のEUV露光向けフォトマスク製造プロセスを開発（2023年12月12日）｜BIGLOBEニ 大日本印刷(DNP)は12月12日、半導体製造の最先端プロセスに適用されるEUV(極端紫外線)リソグラフィに対応した、3nmプロセス相当のフォトマスク製造プロセスを開発したこ…｜BIGLOBEニュース news.biglobe.ne.jp 포토마스크 관련 회사 다이닛폰프린팅이 12월 12일에 반도체 제조 선단 프로세스에 적용되는 EUV 리소그래피에 대응한 3나노 프로세스 상당 포토마스크 제조 프로세스를 개발했다고 발표했다. 2020년에는 5나노 프로세스 상당 EUV 리소그래프 향 포토마스크 제조 프로세스를 개발하..
2024.01.21