다이닛폰프린팅, 3나노 EUV향 포토마스크 제조 프로세스 개발

https://news.biglobe.ne.jp/it/1212/mnn_231212_3745121301.html

DNPが3nmプロセス相当のEUV露光向けフォトマスク製造プロセスを開発（2023年12月12日）｜BIGLOBEニ

포토마스크 관련 회사 다이닛폰프린팅이 12월 12일에 반도체 제조 선단 프로세스에 적용되는 EUV 리소그래피에 대응한 3나노 프로세스 상당 포토마스크 제조 프로세스를 개발했다고 발표했다.

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2020년에는 5나노 프로세스 상당 EUV 리소그래프 향 포토마스크 제조 프로세스를 개발하기도 했었다.

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올해 3나노 프로세스가 채용된 로직 반도체가 나오는 한편, 25년도에는 2나노도 나올 것으로 기대되는데 이런 소식이 나왔다.

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3나노 프로세스 향 포토마스크의 제공을 위해 노력해서 2030년에는 연간 100억엔의 매출을 내는 것을 목적으로 한다고 한다.