다이닛폰프린팅, 3나노 EUV향 포토마스크 제조 프로세스 개발

일본 주식회사 소식들

라이프앤타임 2024. 1. 21. 09:25

DNPが3nmプロセス相当のEUV露光向けフォトマスク製造プロセスを開発（2023年12月12日）｜BIGLOBEニ

大日本印刷(DNP)は12月12日、半導体製造の最先端プロセスに適用されるEUV(極端紫外線)リソグラフィに対応した、3nmプロセス相当のフォトマスク製造プロセスを開発したこ…｜BIGLOBEニュース

news.biglobe.ne.jp

포토마스크 관련 회사 다이닛폰프린팅이 12월 12일에 반도체 제조 선단 프로세스에 적용되는 EUV 리소그래피에 대응한 3나노 프로세스 상당 포토마스크 제조 프로세스를 개발했다고 발표했다.

2020년에는 5나노 프로세스 상당 EUV 리소그래프 향 포토마스크 제조 프로세스를 개발하기도 했었다.

올해 3나노 프로세스가 채용된 로직 반도체가 나오는 한편, 25년도에는 2나노도 나올 것으로 기대되는데 이런 소식이 나왔다.

3나노 프로세스 향 포토마스크의 제공을 위해 노력해서 2030년에는 연간 100억엔의 매출을 내는 것을 목적으로 한다고 한다.